研究室介绍 研究室介绍

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       中国科学院光电技术研究所从1978年开始进行微细加工装备技术及系统研究,先后承担微电子光刻装备领域“六五”、“七五”、“八五”、“九五”、“十五”、“十一五”、“十二五”国家科技攻关、中科院重大项目、国家“863”项目、国家自然科学基金以及国家重大科技专项等100余项,获得省部级以上科技进步奖20余项,获得专利400多项。为产品的开发打下了雄厚的科学、技术以及工程基础。

        先后研制完成具有完全自主知识产权的系统有:第一台接近接触光刻机、第一台g线投影光刻机、第一台i线投影光刻机、第一台X射线投影光刻机、无掩模数字光刻机、第一台底面对准双面光刻机、国内首台成像面积达650mmX650mm超大面积专用光刻机;近期又成功开发纳米压印光刻机、中紫外和深紫外接近接触式光刻机;多款产品被国内外高校、企业、科研机构应用,获得用户的一致好评。