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最小化 最大化

URE-2000S/A型紫外光刻机产品名称:URE-2000S/A型紫外光刻机

主要技术指标:
  曝光面积:150mm×150mm
  分辨力:1μm(胶厚1.5 μm的正胶)
  对准精度:±3μm(双面)
  最大胶厚:500μm(SU8胶)
  掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch
  样片尺寸:直径Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)
  照明均匀性:±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)
  汞灯功率:1000W(直流)
  掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°
技术特点:
该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术,单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计,掩模—样片对准过程直观,套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式,操作方便。
 
更多产品:
光刻机:
生物芯片检测产品:
工件台系列产品:

研究室介绍 研究室介绍

最小化 最大化

       中国科学院光电技术研究所从1978年开始进行微细加工装备技术及系统研究,先后承担微电子光刻装备领域“六五”、“七五”、“八五”、“九五”、“十五”、“十一五”、“十二五”国家科技攻关、中科院重大项目、国家“863”项目、国家自然科学基金以及国家重大科技专项等100余项,获得省部级以上科技进步奖20余项,获得专利400多项。为产品的开发打下了雄厚的科学、技术以及工程基础。

        先后研制完成具有完全自主知识产权的系统有:第一台接近接触光刻机、第一台g线投影光刻机、第一台i线投影光刻机、第一台X射线投影光刻机、无掩模数字光刻机、第一台底面对准双面光刻机、国内首台成像面积达650mmX650mm超大面积专用光刻机;近期又成功开发纳米压印光刻机、中紫外和深紫外接近接触式光刻机;多款产品被国内外高校、企业、科研机构应用,获得用户的一致好评。

成果转化 成果转化

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     近年来,随着国家创新驱动战略的号召和政策,加强科研机构成果转化的在科学院光电所微电子装备研究室研制的系列光刻机、工件台、微纳结构检测、生物芯片仪器等产品可以广泛用于:集成电路、分立元件、光电器件(如LED)、MEMS、微光学元件、生物芯片、材料研发、声表器件、传感器(如应变片、光栅、码盘、红外探测器等)及平板显示器,从2000年开始销售,已经销售近600台套(其中出口美国、新加坡、越南、朝鲜等31台),目前占据国内最大市场份额,产品深受国内外用户欢迎,国内用户有多家重点大学、科研机构及企业。

联系方式:

        电    话:028-85101784,028-85100564

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        联系人:赵立新;胡松